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币游国际(allbet6.com):摩尔定律还没走到底!ASML 1 奈米制程光刻机完成设计即将商业化

admin2021-01-0646

本月中旬,在日本东京的ITF论坛上,与ASML互助研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC宣布了3nm及以下制程的在微缩层面手艺细节。至少就现在而言,ASML对于3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的门路计划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。



IMEC公司执行长兼总裁Luc Van den hove『在主题演讲中先』容了公司研究概况,强调透过与ASML的慎密互助,双方正在将下一代高解析度EUV光刻手艺——高NA EUV光刻手艺商业化。IMEC公司强调,将继续把制程规模缩小到1nm及以下。



在到了3nm以下的趋势,包罗日本在内的许多半导体公司相继退出,声称摩尔定律已经走到了终点,或者说成本太高,无利可图。



在日本众多光刻工具厂商纷纷退出EUV<光刻开发阶段的>同时,半导体研究机构IMEC和ASML一直在互助开发EUV光刻手艺,而EUV光刻手艺对于超细鳞片来说至关重要。



 

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据称在当前台积电、三星的7nm、5nm『制造中已经引入了』NA=0.33的EUV曝光装备。然则,2nm之后则需要更高解析度的曝光装备,【也就是】NA=0.55。儿在ASML已经完成了0.55NA曝光装备的基本设计(即NXE:5000系列),预计在2022年实现商业化。



不外,这套下一世代的曝光装备,由于光学系统变得加倍重大,使得整套装备的体积将变得异常伟大。



ASML现在在售的两款极紫外【光刻】机分别是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,3600D《计画明年年中》出货,生产效率将提升18%。



 



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网友评论

3条评论
  • 2021-01-06 00:01:24

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